特許
J-GLOBAL ID：200903093117420748
ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-077927
公開番号（公開出願番号）：特開2004-288804
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】ナノプリント法において、より高精度な転写を行うことを目的とする。【解決手段】基板上に微細構造を形成するために、基板と、表面に微細な凹凸が形成されたスタンパとを、緩衝材を介して加熱・加圧するナノプリント装置において、複数個の前記緩衝材が搬送フィルム上に保持されており、加熱・加圧時に前記緩衝材を順次交換する機構を有することを特徴とするナノプリント装置、及び該ナノプリント装置を用いる微細構造転写方法。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上に微細構造を形成するために、基板と、表面に微細な凹凸が形成されたスタンパとを、緩衝材を介して加熱・加圧するナノプリント装置において、
加熱・加圧後に前記緩衝材を順次交換する機構を有することを特徴とするナノプリント装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, G03F7/20 521
