特許
J-GLOBAL ID:200903093123752671
トリクロロシランおよび四塩化珪素の貯蔵方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-116377
公開番号(公開出願番号):特開平11-020895
出願日: 1998年04月27日
公開日(公表日): 1999年01月26日
要約:
【要約】【課題】 高密度集積回路の歩留まりを上げることを最終的な目標として、その原料となる多結晶シリコンを高品質で提供するため、多結晶シリコン中に窒化物の形成を防止するためのトリクロロシランの貯蔵方法を提供すること。【解決手段】トリクロロシランまたはトリクロロシランを製造するための原料としての四塩化珪素の貯蔵タンクのシールガスとして水素ガスを用いることを特徴とするトリクロロシランの貯蔵方法。
請求項(抜粋):
トリクロロシランの貯蔵タンクのシールガスとして水素ガスを用いることを特徴とするトリクロロシランの貯蔵方法。
IPC (4件):
B65D 90/44
, C01B 33/03
, F17C 13/06 301
, H01L 21/205
FI (4件):
B65D 90/44
, C01B 33/03
, F17C 13/06 301 Z
, H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (2件)
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被膜形成用塗布液の貯蔵方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-295293
出願人:触媒化成工業株式会社
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特開昭56-073617
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