特許
J-GLOBAL ID:200903093158031721

高分子電解質の製造方法及び光電変換素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-111648
公開番号(公開出願番号):特開2001-028276
出願日: 2000年04月13日
公開日(公表日): 2001年01月30日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】機械的強度および安全性が高く、かつ、高光電変換機能を有する高分子電解質の製造方法およびそれを用いた光電変換素子の提供。【解決手段】高分子マトリックス中に酸化還元系電解質を含浸させ高分子電解質を製造する。酸化還元系電解質はハロゲンイオンを対イオンとするLiI等のハロゲン化合物及びハロゲン分子からなり、高分子マトリックスは重合性モノマー溶解液の硬化物を用いる。
請求項(抜粋):
高分子マトリックス中に酸化還元系電解質を含浸させることを特徴とする高分子電解質の製造方法。
IPC (10件):
H01M 14/00 ,  C08F 14/18 ,  C08F 16/14 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/34 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  H01G 9/035 ,  H01G 9/028 ,  H01L 31/04
FI (10件):
H01M 14/00 P ,  C08F 14/18 ,  C08F 16/14 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/34 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  H01G 9/02 311 ,  H01G 9/02 331 Z ,  H01L 31/04 Z
引用特許:
審査官引用 (2件)

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