特許
J-GLOBAL ID：200903093227393223
浴槽水循環システムの殺菌方法及び高温殺菌装置付浴槽 水循環システム
出願人/特許権者：
東京瓦斯株式会社
東京瓦斯株式会社 について
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-216557
公開番号（公開出願番号）：特開平9-047756
出願日： 1995年08月03日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 レジオネラ菌等の耐性の強い細菌をも殺菌することのできる浴槽水循環システムの殺菌方法及び高温殺菌装置付浴槽水循環システムを提供する。【解決手段】 浴槽水循環システムは、ろ過槽39、ポンプ13、配管等からなり、浴槽1内の水を循環浄化するシステムである。給湯器5から、配管44を通って、63°C以上の高温水がろ過槽39等に供給される。この加熱操作によってレジオネラ菌を殺菌する。
請求項（抜粋）：
浴槽内の水を循環浄化する浴槽水循環システムにおいて、レジオネラ菌等を殺菌する方法であって;該浴槽水循環システムの構成機器を63°C以上に加熱することを特徴とする浴槽水循環システムの殺菌方法。
IPC (3件)：
FI (3件)：
引用特許：
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