特許
J-GLOBAL ID：200903093285067336
含フッ素樹脂薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-173656
公開番号（公開出願番号）：特開平8-085728
出願日： 1995年07月10日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】 光学的に均質で、表面に傷や伸びが無く、清浄且つ透明性に優れた含フッ素樹脂独立薄膜を、基体からの膜の剥離に際して水浸漬剥離工程等を経ることなく簡易に製造する方法を提供する。【構成】 基体上に均質な含フッ素樹脂薄膜を形成させ、該薄膜を基体から剥離することにより含フッ素樹脂薄膜を製造する方法に於いて、基体上に下地層として、フッ素原子を含まない樹脂であって必要に応じてシリコーンオイルを含有させたものより成る樹脂層を予め形成させ、該下地層表面上に含フッ素樹脂を施して薄層を形成させ、該形成された薄膜層を下地層面から剥離して独立薄膜を製造することを特徴とする含フッ素樹脂独立薄膜の製造法。
請求項（抜粋）：
基体上に均質な含フッ素樹脂薄膜を形成させ、該薄膜を基体から剥離することにより含フッ素樹脂薄膜を製造する方法に於いて、基体上に下地層として、フッ素原子を含まない樹脂より成る樹脂層を予め形成させ、該下地層表面上に含フッ素樹脂を施して薄層を形成させ、該形成された薄膜層を下地層面から剥離して独立薄膜を製造することを特徴とする含フッ素樹脂独立薄膜の製造法。
IPC (4件)：
C08J 5/18 CEW
, G03F 1/14
, C08L 27/12 LGL
, C08L 27:14
