特許
J-GLOBAL ID：200903093308281527

対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む 水の製造方法及び得られた水

発明者：
澄田 修生

澄田 修生 について


出願人/特許権者：
有限会社コヒーレントテクノロジー

有限会社コヒーレントテクノロジー について


代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-334572
公開番号（公開出願番号）：特開平7-075784
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：
【要約】【目的】 洗浄又は表面処理に好適で、しかも、廃液処理が容易な対イオンより過剰な濃度の水素イオン又は水酸イオンを含む水を効率良く製造する技術、又、対イオンより過剰な濃度の水素イオン又は水酸イオンを含む水を提供することである。【構成】 対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水を製造する方法であって、アノード極が設けられたアノード室と、カソード極が設けられたカソード室と、前記アノード室及びカソード室に挟まれた中間室とからなる三室構造の電解槽を用い、前記アノード室及び/又はカソード室に水を供給すると共に、前記中間室には電解質が存在する条件下で電解処理を行う対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水の製造方法。
請求項（抜粋）：
対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水を製造する方法であって、アノード極が設けられたアノード室と、カソード極が設けられたカソード室と、前記アノード室及びカソード室に挟まれた中間室とからなる三室構造の電解槽を用い、前記アノード室及び/又はカソード室に水を供給すると共に、前記中間室には電解質が存在する条件下で電解処理を行うことを特徴とする対イオンよりも水素イオン又は水酸イオンを過剰に含む水の製造方法。
引用特許：
審査官引用 (5件)
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