特許
J-GLOBAL ID：200903093314788021
荷電ビーム描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-187472
公開番号（公開出願番号）：特開平10-032188
出願日： 1996年07月17日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：
【要約】【課題】 サブフィールドの大幅な重複を招かず、一つの描画パターン定義データのみを用いて、サブフィールド多重描画とストライプ多重描画を可能にする。【解決手段】 描画領域をストライプ状に分割してストライプ毎に描画を行うと共に、ストライプ内を複数のサブフィールドに分割して描画を行い、かつ同一パターンを同一試料上にn回多重描画する可変成形ビーム方式の電子ビーム描画装置において、パターン定義データとは独立にストライプ境界を設定し、パターンを構成するデータが現在描画しているストライプに属するかを判定する機構と、パターン定義データとは独立にサブフィールドを設定し、パターンを構成する小図形群がどのサブフィールドのどこに位置するかを判定する機構とを有し、多重描画の毎回の描画毎に、ストライプの設定位置を(ストライプの高さ/n)ずつずし、かつサブフィールド格子の原点を(格子周期/n)ずつ2方向にずらす。
請求項（抜粋）：
荷電ビームを所望の形状に成形し、該ビームを主・副2段以上の偏向器で偏向して試料上の任意の位置に照射する可変成形ビーム方式の荷電ビーム描画装置であって、描画領域をストライプ状の領域に分割してストライプ毎に描画を行うと共に、ストライプ内を複数の副偏向領域(サブフィールド)に分割して描画を行い、かつ同一パターンを同一試料上にn回多重描画する荷電ビーム描画装置において、パターン定義データとは独立にストライプ境界を設定し、パターンを構成するデータが現在描画しているストライプに属するかを判定する手段と、パターン定義データとは独立に、副偏向可能な量以下の任意幅の周期を持ち格子状に描画全領域を覆うサブフィールドを設定し、パターンを構成する小図形群がどのサブフィールドのどこに位置するかを判定する手段と、多重描画の毎回の描画毎に、ストライプの設定位置を(ストライプの高さ/n)ずつずらすと共に、サブフィールド格子の原点を(格子周期/n)ずつ2方向にずらす手段と、パターンを定義する図形データの構成単位である小図形群が占める領域の最大サイズを副偏向可能な最大幅と上記格子周期との差以下に設定する手段とを具備してなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01J 37/305
H01L 21/302 D
, H01J 37/305 A
