特許

J-GLOBAL ID：200903093318311408

炭化水素成分トラッパ装置,蒸発燃料吸収装置及び排気ガス浄化装置

発明者： 稲垣 伸二 ,  福嶋 喜章 ,  太田 隆 ,  岡田 茜 ,  小粥 真彦 ,  永見 哲夫 ,  松浦 慎次 ,  植原 清高 ,  黒田 一幸
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所 ,  トヨタ自動車株式会社 ,  キャタラー工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-245698
公開番号（公開出願番号）：特開平6-015165
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：

【要約】【目的】 炭化水素(HC)特にC6以上の高沸点成分や嵩高い芳香族HCの捕捉能力の高いHCトラッパを提供すること。【構成】 上記HCトラッパの吸収剤として,(1)珪素四面体SiO4 の層状結晶の間に珪酸の脱水縮合によるSiO2 の層間架橋が形成され,かつ層間に多数の細孔を備えた層状シリカ多孔体,又は(2)該層状シリカ多孔体の構造に加えて更に前記層状結晶に珪素と異なる金属原子が結合することにより発現した固体酸性を備えている層状シリカ-金属酸化物多孔体を用いる。上記HCトラッパとしては,蒸発燃料吸収装置,排気ガス浄化装置などがある。

請求項（抜粋）：

炭化水素成分を含むガスの通路に設けられ,該炭化水素成分をトラップする吸収剤を充填したトラッパ装置であって,前記吸収剤として,少なくとも次の層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ-金属酸化物多孔体を用いたことを特徴とする炭化水素成分トラッパ装置。(1)珪素四面体SiO4 の層状結晶の間に珪酸の脱水縮合によるSiO2 の層間架橋が形成され,かつ層間に多数の細孔を備えた層状シリカ多孔体。(2)珪素四面体SiO4 の層状結晶の間に珪酸の脱水縮合によるSiO2 の層間架橋が形成され,かつ層間に多数の細孔を備え,さらに前記層状結晶に珪素と異なる金属原子が結合することにより発現した固体酸性を備えている層状シリカ-金属酸化物多孔体。

IPC (5件)：

B01J 20/10 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/34 120 ,  B01J 20/28 ,  F01N 3/08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-040865
  
• 特開平1-227861
  
• 特開平2-075327