特許
J-GLOBAL ID：200903093397130359
光造形方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-287856
公開番号（公開出願番号）：特開2004-122501
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】光造形物における歪みの発生を抑制して造形精度を向上させると共に、高強度の光造形物を得ることができる光造形方法を提供する。【解決手段】凹凸を備えた接合界面が形成されるように第n層が部分的に硬化されると共に、第n層の未硬化部分では第n層と第n+1層とが同時に硬化されるので、第n層と第n+1層との接合強度が向上する。また、同様に第n+1層が部分的に硬化されると共に、第n+1層の未硬化部分では第n+1層と第n+2層とが同時に硬化されるので、第n+1層と第n+2層との接合強度が向上する。これにより、造形物の強度が向上する。また、単一層内で露光領域が分割されるだけではなく、隣接する2層について露光領域が立体的に分割されるので、露光歪みが立体的に吸収される。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
露光により光硬化性樹脂を硬化させた樹脂硬化層を積層して3次元モデルを造形する光造形方法であって、
露光領域を多数個の画素に分割し、隣接する所定個以上の画素が同時に露光されないように露光し、未硬化部分を残した第1の層を形成する工程と、
該第1の層上に、第2の層を形成するための光硬化性樹脂を充填する工程と、
前記第1の層の未硬化部分と該未硬化部分に対応する画素とを同時に露光し、未硬化部分を残した第2の層を形成する工程と、
を含む光造形方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
4F213AA44
, 4F213WL05
, 4F213WL13
, 4F213WL23
, 4F213WL35
, 4F213WL45
, 4F213WL67
, 4F213WL73
, 4F213WL76
, 4F213WL77
, 4F213WL78
, 4F213WL80
, 4F213WL85
, 4F213WL87
, 4F213WL95
