特許

J-GLOBAL ID：200903093453047338

セラミック多孔質膜の処理方法

発明者： 菱木 達也 ,  高橋 直子
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-271803
公開番号（公開出願番号）：特開2009-255031
出願日： 2008年10月22日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：

【課題】セラミック多孔質膜が時間の経過によって最終的に発現し得る分解性能に到達するまでの時間を大幅に短縮できるとともに、溶解のような膜特性を低下させる可能性がある損傷が生じにくいセラミック多孔質膜の処理方法を提供すること。【解決手段】多孔質基材10上にセラミックゾルを付着させ、前記セラミックゾルを乾燥し、その後焼成することにより形成されたセラミック多孔質膜1に対し、カルボン酸分子を接触させる処理を施すセラミック多孔質膜の処理方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多孔質基材上にセラミックゾルを付着させ、前記セラミックゾルを乾燥し、その後焼成することにより形成されたセラミック多孔質膜に対し、 カルボン酸分子を接触させる処理を施すセラミック多孔質膜の処理方法。

IPC (3件)：

B01D 71/02 ,  B01D 69/10 ,  C04B 41/82

FI (3件)：

B01D71/02 ,  B01D69/10 ,  C04B41/82 A

Fターム (17件)：

4D006GA06 ,  4D006GA25 ,  4D006HA77 ,  4D006JA52Z ,  4D006MA02 ,  4D006MA04 ,  4D006MA09 ,  4D006MB09 ,  4D006MC03X ,  4D006MC90 ,  4D006NA39 ,  4D006NA46 ,  4D006NA58 ,  4D006PA04 ,  4D006PB14 ,  4D006PB70 ,  4D006PC80

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ガス分離膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-092192   出願人：京セラ株式会社