特許
J-GLOBAL ID：200903093530255046
電子放出素子、電子源、及びそれを用いた画像形成装置と、それらの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
豊田 善雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-259074
公開番号（公開出願番号）：特開平8-102250
出願日： 1994年09月29日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 画像形成装置の大面積化,高品位化を実現し得る電子ビーム源としての表面伝導型電子放出素子の製造方法を提供する。【構成】 基板1上に形成した素子電極4,5間に跨がる導電性薄膜3に電子放出部2が設けられた表面伝導型電子放出素子の製造方法において、基板1上に各素子電極部分の段差部の高さが異なるように素子電極4,5を形成した後、基板1とノズルとの間に電位差を与えた状態で、基板1上に導電性薄膜3の構成元素を含む有機金属溶液をノズルより噴霧する工程を有することを特徴とする。【効果】 大面積の露光技術の性能と整合するように素子電極間距離Lを長くした場合にも、電子放出部の形状及び位置の再現性が高く、均一な電子放出特性を有する素子が得られる。
請求項（抜粋）：
基板上に形成した一対の素子電極間に跨がる導電性薄膜に電子放出部が設けられた表面伝導型電子放出素子の製造方法において、基板上に、各素子電極部分の段差部の高さが異なる一対の素子電極を形成する工程と、上記一対の素子電極を形成した基板上に、導電性薄膜の構成元素を含む溶液をノズルより噴霧する工程を有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
IPC (4件)：
H01J 9/02
, H01J 1/30
, H01J 31/12
, H01J 31/15
