特許
J-GLOBAL ID：200903093607284877

超純水中の水酸基による加工方法

発明者：
森 勇藏

森 勇藏 について


出願人/特許権者：
森 勇藏

森 勇藏 について


代理人 (1件)： 柳野 隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-212517
公開番号（公開出願番号）：特開平10-058236
出願日： 1996年08月12日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：
【要約】【課題】 超純水中のOH- 濃度を増大させれば、このOH- を利用して充分に加工することができるとの認識に基づき、超純水中のOH- を用いて被加工物の加工面に不純物を残さずに清浄な加工が行える全く新しい超純水中の水酸基による加工方法を提供する。【解決手段】 微量の不可避不純物を除き超純水のみを用い、これにイオン積を増大させる水酸基増加処理を施し、この水酸基又は水酸基イオンの濃度が増大した超純水中に浸漬した被加工物を、水酸基又は水酸基イオンによる化学的溶出反応若しくは酸化反応によって除去加工若しくは酸化被膜形成加工する。
請求項（抜粋）：
微量の不可避不純物を除き超純水のみを用い、これにイオン積を増大させる水酸基増加処理を施し、この水酸基又は水酸基イオンの濃度が増大した超純水中に浸漬した被加工物を、水酸基又は水酸基イオンによる化学的溶出反応若しくは酸化反応によって除去加工若しくは酸化被膜形成加工することを特徴とする超純水中の水酸基による加工方法。
IPC (5件)：
B23H 3/08 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/48
FI (5件)：
B23H 3/08 ,  C02F 1/00 Z ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/46 Z ,  C02F 1/48 B
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)

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