特許

J-GLOBAL ID：200903093623894405

レジスト除去用組成物及びそれを用いたレジスト除去方法

発明者： 原 靖
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-264161
公開番号（公開出願番号）：特開2009-092979
出願日： 2007年10月10日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：

【課題】アルカノールアミン系のレジスト除去用組成物では、レジスト除去能力が十分でなく、特に有機溶媒を分解しやすく、しかも半導体、フラットパネルディスプレー材料へのダメージが大きかった。【解決手段】N-(シアノアルキル)-N’-(2-ヒドロキシアルキル)エチレンジアミンを含んでなるレジスト除去用組成物では、レジスト除去能が高く、なおかつ有機溶媒を分解せず、半導体、フラットパネルディスプレー材料へのダメージがない。N-(シアノアルキル)-N’-(2-ヒドロキシアルキル)エチレンジアミンとしては、N-(シアノアルキル)-N’-(2-ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、(2-シアノエチル)-N’-(2-ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N-(2-メチル-2-シアノエチル)-N’-(2-ヒドロキシエチル)エチレンジアミン等が好ましい。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

N-(シアノアルキル)-N’-(2-ヒドロキシアルキル)エチレンジアミンを含んでなるレジスト除去用組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/42 ,  H01L21/30 572

Fターム (5件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  5F046MA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭62-49355号公報
  
• 洗浄剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-320357   出願人：東ソー株式会社