特許

J-GLOBAL ID：200903096823081467

洗浄剤

発明者： 原 靖 ,  林 博明
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-320357
公開番号（公開出願番号）：特開2004-155822
出願日： 2002年11月01日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】半導体デバイスの配線材料に用いられている銅の洗浄に際し、銅を侵さない洗浄剤を提供する。【解決手段】洗浄剤として、シアノアルキルアミン類を含んでなる洗浄剤であり、シアノアルキルアミン類としては、シアノエチルアミン類を好適に用いることができ、具体的には、N-(2-シアノエチル)トリメチレンジアミン、N-(2-シアノエチル)-N-メチルエチレンジアミン、N-(2-シアノエチル)-N-メチルトリメチレンジアミン、N-メチル-N-(2-シアノエチル)アミン等を用いることができる。【選択図】 選択図なし

請求項（抜粋）：

シアノアルキルアミン類を含んでなる洗浄剤。

IPC (2件)：

C11D7/32 ,  H01L21/304

FI (2件)：

C11D7/32 ,  H01L21/304 647Z

Fターム (6件)：

4H003BA12 ,  4H003DA09 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003EB13 ,  4H003ED02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体装置成形用金型洗浄剤組成物およびそれを用いた金型クリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-033725   出願人：日東電工株式会社
• 洗浄組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-325002   出願人：セントラル硝子株式会社