特許
J-GLOBAL ID：200903093634701790
テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシド含有廃液の処理方法および電子部品用現像液
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-121005
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328642
出願日： 1994年06月02日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドおよびフォトレジストを含有する廃液を、効率よく処理し、テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドを回収する方法を提供する。【構成】 テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドおよびフォトレジストを含有する廃液を電気透析し、テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドを濃縮分離することを特徴とするテトラアルキルアンモニウムヒドロオキシド含有廃液の処理方法。
請求項（抜粋）：
テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドおよびフォトレジストを含有する廃液を電気透析し、テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドを濃縮分離することを特徴とするテトラアルキルアンモニウムヒドロオキシド含有廃液の処理方法。
IPC (4件)：
C02F 1/469
, B01D 61/44 ZAB
, B01D 61/44 500
, C02F 1/46 ZAB
