特許
J-GLOBAL ID：200903093657521250

研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法

発明者：
糸山 光紀

糸山 光紀 について

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朝比奈 大輔

朝比奈 大輔 について

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高田 直樹

高田 直樹 について

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川村 佳秀

川村 佳秀 について

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高橋 大介

高橋 大介 について


出願人/特許権者：
富士紡ホールディングス株式会社

富士紡ホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-012197
公開番号（公開出願番号）：特開2009-172699
出願日： 2008年01月23日
公開日（公表日）： 2009年08月06日
要約：
【課題】巨大発泡の形成を抑制し微細な発泡を均等化した研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨パッド1は、ポリウレタンシート2を有している。ポリウレタンシートは、プレポリマと、トリオール化合物とジオール化合物とが混合されたポリオール化合物に水と相間移動触媒とを分散希釈させた分散液とを混合した混合液から乾式成形されたポリウレタン発泡体をスライスすることで形成されている。ポリウレタンシートの内部には、水により微細化した発泡3が略均等に分散して形成されている。相間移動触媒が、分散液中で水を微細化して略均等に分散させ、混合液中でプレポリマと水との反応を均一化する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イソシアネート基含有化合物と、ポリオール化合物に水と相間移動触媒とを分散希釈させた分散液と、を混合した混合液から乾式成形されたポリウレタン発泡体を有することを特徴とする研磨パッド。
IPC (3件)：
B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C08G 18/16
FI (4件)：
B24B37/00 P ,  B24B37/00 T ,  H01L21/304 622F ,  C08G18/16
Fターム (36件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  4J034CA04 ,  4J034CA05 ,  4J034CB03 ,  4J034CB04 ,  4J034CB07 ,  4J034CD01 ,  4J034CD04 ,  4J034DF01 ,  4J034DF02 ,  4J034DF12 ,  4J034DG03 ,  4J034DG04 ,  4J034DG06 ,  4J034HA01 ,  4J034HA06 ,  4J034HA07 ,  4J034HB11 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034JA42 ,  4J034KB02 ,  4J034KB05 ,  4J034KD03 ,  4J034KD12 ,  4J034NA03 ,  4J034QA05 ,  4J034QC01 ,  4J034QD03 ,  4J034RA14
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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