特許

J-GLOBAL ID：200903093703208251

膜形成組成物

発明者： 森田 敏郎
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-194921
公開番号（公開出願番号）：特開2008-021951
出願日： 2006年07月14日
公開日（公表日）： 2008年01月31日
要約：

【課題】塗布拡散法に用いる膜形成組成物であって、シリコンウエハに、より高い濃度の不純物を拡散することができ、更に、同時にシリカ系被膜を形成することが可能な膜組成物を提供すること。【解決手段】シリコンウエハ上に形成され、当該シリコンウエハへの不純物元素の拡散を行うための拡散膜を構成する膜形成組成物であって、(A)高分子ケイ素化合物と、(B)前記不純物元素の酸化物又は当該元素を含む塩と、(C)ポロージェンと、を含有する膜形成組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

シリコンウエハへの不純物元素の拡散を行うための拡散膜を構成する膜形成組成物であって、 (A)高分子ケイ素化合物と、(B)前記不純物元素の酸化物、若しくは当該元素を含む塩と、(C)ポロージェンと、を含有する膜形成組成物。

IPC (1件)：

H01L 21/225

FI (1件)：

H01L21/225 R

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2639591号公報
  
• シリカ系被膜形成用塗布液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-352634   出願人：東京応化工業株式会社