特許
J-GLOBAL ID：200903093726078231
露光用マスク・露光条件の設計方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-061461
公開番号（公開出願番号）：特開平9-258428
出願日： 1996年03月18日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】所望通りの面積を有する転写パターンの作成に有効な露光用マスク・露光条件の設計方法を提供すること【解決手段】所望パターン11の面積S1と転写パターン12との面積S2の差(S2-S1)を評価パラメータΔとし、コンタクトホールの場合には、評価パラメータΔがコンタクト面積よりも大きくなるように、シミュレーションにより露光用マスク・露光条件の設計を行なう。
請求項（抜粋）：
所望転写パターンに対応した設計パターンを有する露光用マスクに光を照射して感光性膜を露光し、この露光された感光性膜を現像して転写パターンを形成する場合における前記露光用マスクの前記設計パターンおよび前記露光の条件を設計する露光用マスク・露光条件の設計方法において、2次元平面として前記感光性膜の露光面を選び、前記2次元平面上の任意の点を定義する2次元座標を(x,y)、与えられた設計パターンおよび露光の条件に対する前記2次元平面における転写パターンに対応した前記感光性膜の有無を表す関数をf(x,y)、前記2次元平面における前記所望転写パターンに対応した前記感光性膜の有無を表す関数をg(x,y)、前記感光性膜の露光面の任意の領域をDとした場合に、Δ=∫∫D f(x,y)dxdy-∫∫D g(x,y)dxdyで定義される評価パラメータΔとしきい値とが所定の関係を満たすまで、前記与えられた設計パターンおよび露光の条件を更新することを特徴とする露光用マスク・露光条件の設計方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 516 Z
, H01L 21/30 528
