エネルギービーム加工法及びエネルギービーム加工装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：湯浅恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-244731
公開番号（公開出願番号）：特開平8-206866
出願日： 1995年09月22日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【課題】エネルギービームをマスクを介して被加工物に照射し、照射量に応じた局所的な深さ加工を施す。【解決手段】マスク14に形成されたビーム透過孔14aを透過させて被加工物12にエネルギービームを照射し、そのさいにマスク14と被加工物12の相対位置を制御し、被加工物12の特定領域をエネルギービームの照射量に応じた深さに加工する。これにより、レジスト塗布や露光や現像といった工程を繰り返して三次元的凹凸のある基板表面を形成するに従来のリソグラフィ技術と異なり、局所的に加工深さが異なる加工物の製作が非常に容易であり、しかも一度の加工で短時間で精度よく所望の深さ加工が可能である。

請求項（抜粋）：

エネルギービーム源が発するエネルギービームを、マスクに穿設された所定形状パターンのビーム透過孔を透過させて被加工物に照射するとともに、前記エネルギービーム源と前記マスクの相対位置関係又は該マスクと前記被加工物の相対位置関係の少なくとも一方を変化させ、該被加工物に対する前記エネルギービームの照射量を制御することにより被加工物の加工深さを加工位置によって変化せしめたことを特徴とするエネルギービーム加工法。

IPC (8件)：

B23K 26/06 , B23K 26/00 330 , B23K 26/02 , B26F 3/00 , C23F 4/02 , H01J 37/305 , B23K 17/00 , H01L 21/302

引用特許：

審査官引用 (5件)

微細加工法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-054022 出願人：株式会社ニコン
特開平2-116126
特開平1-015922

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