特許

J-GLOBAL ID：200903093767784442

液体状原料供給装置およびこれを備えた化学気相成長装置、エッチング装置並びに洗浄装置

発明者： 川原 孝昭 ,  山向 幹雄 ,  堀川 剛 ,  多留谷 政良 ,  佐藤 剛彦
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-149639
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332540
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】 液体状原料を安定して供給することのできる液体状原料供給装置を提供する。【解決手段】 液体状原料供給機は、原料容器1a〜1c、THF容器1d、各原料容器1a〜1cと各液体状原料とキャリアガスとがすべて合流する箇所までを接続する配管10、各液体状原料とキャリアガスとがすべて合流した箇所から気化器14までを接続する配管11を備えている。配管11の断面積がキャリアガスの流量および粘性係数と、合流した液体状原料の流量および粘性係数とに基いて最適化されている。

請求項（抜粋）：

複数の固体原料をそれぞれ所定の溶媒に溶かした液体状原料のそれぞれを貯蔵するための原料容器と、各前記原料容器から送出されて合流した液体状原料を所定の部位に送込むための第1の配管とを備え、前記第1の配管の断面積をS1(m2)、前記キャリアガスの流量をA(L/min)、前記キャリアガスの粘性係数をμG、合流した前記液体状原料の流量をB(L/min)、合流した前記液体状原料の粘性係数をμL、窒素ガスの粘性係数をμN2、テトラヒドロフラン[THF]の粘性係数をμTHFとすると、次の3条件、S1≦2.4×10-7(m2)2×10-7・A×μG/μN2+8×10-5・B×μL/μTHF≦S1S1≦3×10-7・A×μG/μN2+1.2×10-4・B×μL/μTHFを満足する、液体状原料供給装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (4件)：

H01L 21/31 B ,  H01L 21/302 B ,  H01L 27/10 621 Z ,  H01L 27/10 651

Fターム (20件)：

5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BC03 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DB13 ,  5F004EB08 ,  5F045AA03 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045DP03 ,  5F045EC08 ,  5F083AD42 ,  5F083AD48 ,  5F083AD49 ,  5F083JA14 ,  5F083JA38 ,  5F083MA06 ,  5F083MA17 ,  5F083PR21