特許
J-GLOBAL ID：200903093777702460
酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射方法並びに酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射装置及びプラズマ溶射皮膜を有する製品
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 博一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-196118
公開番号（公開出願番号）：特開平11-043759
出願日： 1997年07月22日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 金属箔やプラスチックフィルムのような高温弱体基材の表面に酸化チタン粉末をバインダーを介在させることなく直接プラズマ溶射し、活性酸素の殺菌能力を有する酸化チタン溶射皮膜を基材に形成する酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射方法並びに酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射装置及びプラズマ溶射皮膜を有する製品の提供。【解決手段】 プラズマノズル本体のプラズマ炎噴出孔から少なくともアルゴンガスと窒素ガスからなる混合ガスのプラズマ炎を高速で噴出させ、前記プラズマ炎噴出孔の出口に近接して設けられたアナターゼ型酸化チタン粉末の吹き出し口からアナターゼ型酸化チタン粉末を前記混合ガスのプラズマ炎中に噴出させ、基材表面に光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンの皮膜を溶射形成すること。
請求項（抜粋）：
プラズマノズル本体のプラズマ炎噴出孔から少なくともアルゴンガスと窒素ガスからなる混合ガスのプラズマ炎を高速で噴出させ、前記プラズマ炎噴出孔の出口に近接して設けられたアナターゼ型酸化チタン粉末の吹き出し口からアナターゼ型酸化チタン粉末を前記混合ガスのプラズマ炎中に噴出させ、基材表面に光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンの皮膜を溶射形成することを特徴とする酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射方法。
IPC (3件)：
C23C 4/12
, C23C 4/08
, H05H 1/42
C23C 4/12
, C23C 4/08
, H05H 1/42
