イオンプレーティングのプラズマビーム制御方法及び制御装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-118500
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316794
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：

【要約】【目的】設計を難しくすることなく補助放電から主放電への移行時間の短縮化を図ることのできるプラズマビーム制御装置を提供すること。【構成】ハース20の中心軸に同心で前記ハースの上部近傍を囲むように環状永久磁石31を設ける。この環状永久磁石の少なくとも上面を覆う様な環状磁石ケース32を設け、該環状磁石ケースと前記ハースとは絶縁板36を介して接続されており、前記環状磁石ケース及び前記ハースのそれぞれを主電源19A及び補助放電用電源19Bに接続手段を介して接続すると共に、該接続手段にはそれぞれ、電流制御装置41、42を介在させた。

請求項（抜粋）：

ビーム発生器からプラズマビームを発生させ、該プラズマビームをハースの入射面に導き、該ハース上の蒸着物質を蒸発、イオン化し、該蒸発、イオン化した蒸着物質を前記ハースと対向させて配置された基板の表面に付着させてイオンプレーティングを行なう方法において、前記ビーム発生器から放電を開始する際、前記ハース近傍に設けられた補助陽極にプラズマビームの電流を流し、前記放電が安定した後、前記ハース側に切り替えてプラズマビームの電流を流すようにしたイオンプレーティングのプラズマビーム制御方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-118146 出願人：旭硝子株式会社

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