特許
J-GLOBAL ID：200903093851709081
スルホニルオキシム化合物、それを使用する感放射線性酸発生剤、ポジ型感放射線性樹脂組成物、及びネガ型感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-237135
公開番号（公開出願番号）：特開2003-137860
出願日： 2002年08月15日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外線等に感応する酸発生剤として有用なスルホニルオキシム化合物、それを使用する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 一般式(1):【化1】[式中、R1は水素原子、アルキル基等;R2はアルキル基等;Xはハロゲン原子;Yは-R3、-CO-R3(R3は水素原子又はアルキル基)等である]で表されるスルホニルオキシム化合物(二量体化していてもいてもよい。)、並びに、該化合物を含有する感放射線性酸発生剤、及び該感放射線性酸発生剤を含む化学増幅型のポジ型又はネガ型の感放射線性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)【化1】[式中、R1は、水素原子、炭素原子数1〜20の置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基であり、R2は、炭素原子数1〜20の置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基であり、Xはハロゲン原子であり、Yは-R3、-CO-R3基、-COO-R3基、-CONR3R4基、-S-R3基、-SO-R3基、-SO2-R3基、-CN基又は-NO2基であり、Y中のR3及びR4は、独立に、水素原子、炭素原子数1〜20の置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基である。ただし、R1、R2及びR3のいずれか2つは互いに結合して、下記式(2-1)、式(2-2)及び式(2-3):【化2】(式中Y”は、前記YからR3基が除かれて形成される単結合又は2価の基である。)に示す環状構造を形成していてもよく、また、前記R1、R2又はYは結合基R1’、R2’又はY’となって、これらを介して、下記式(3-1)、式(3-2)又は式(3-3):【化3】(式中、R1’、R2’又はY’は、それぞれ、別々の分子に属する2個のR1、R2又はYから各1個の原子又は基が解離して生じた残基が結合して形成された形の2価の基である。)に示す二量体を形成していてもよい。]で表されるスルホニルオキシム化合物。
IPC (5件)：
C07C317/28
, C07C317/30
, C07C317/32
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
C07C317/28
, C07C317/30
, C07C317/32
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BF00
, 2H025CB52
, 2H025CC20
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB92
, 4H006TA02
, 4H006TB02
, 4H006TB04
, 4H006TC11
, 4H006TC36
