特許
J-GLOBAL ID:200903093867430923

炭化水素の接触部分酸化法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川原田 一穂 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-506215
公開番号(公開出願番号):特表平10-503462
出願日: 1995年08月01日
公開日(公表日): 1998年03月31日
要約:
【要約】炭化水素フィードストックの接触部分酸化法は、触媒が熱衝撃を受け易い条件下で、炭化水素フィードストックと酸素含有ガスを含むフィードを、ジルコニアをベースとする担体に担持した触媒活性金属を含む多孔質一体構造形態の触媒と高温で接触させることを特徴とする。
請求項(抜粋):
触媒が熱衝撃を受け易い条件下で、炭化水素フィードストックと酸素含有ガスを含むフィードを、ジルコニアをベースとする担体に担持した触媒活性金属を含む多孔質一体構造形態の触媒と高温で接触させることを特徴とする、炭化水素フィードストックの接触部分酸化法。
IPC (2件):
C01B 3/38 ,  C01B 3/40
FI (2件):
C01B 3/38 ,  C01B 3/40
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 炭化水素の接触部分酸化法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-174670   出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
  • 合成ガスの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-282722   出願人:出光興産株式会社
  • 特開昭58-181704
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審査官引用 (8件)
  • 炭化水素の接触部分酸化法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-174670   出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
  • 合成ガスの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-282722   出願人:出光興産株式会社
  • 特開昭58-181704
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