特許
J-GLOBAL ID：200903093882869370
階調画像作成用閾値配列決定方法および階調画像データ作成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
千葉 剛宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-028838
公開番号（公開出願番号）：特開2001-292317
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：
【要約】【課題】画像出力装置の出力解像度と網周波数との干渉により発生するモアレ成分を低減することを可能とする閾値配列を決定する。【解決手段】ある階調まで決まっている閾値配列により網点画像データHを発生し、この網点画像データHに対してFFT40、LPF42およびIFFT44による低周波成分抽出処理を行う。そして、抽出した低周波成分データLがより少なくなる閾値Tの位置を、次の階調の閾値Tの配置位置として決定する。この決定過程は、実空間上での処理過程であり、見通しよく正確に次の閾値の配置位置を決定することができる。このようにすれば、階調画像の作成に供される閾値配列が、階調画像を作成した際に、不要な低周波成分であるモアレ成分を発生しにくい閾値配列を有するものになる。
請求項（抜粋）：
閾値配列中、閾値の小さい方からある階調までの閾値の配置位置が決定しているときに、次階調の同値1つ以上の閾値の配置位置を決定する際、前記次階調の同値1つ以上の閾値の配置位置の候補位置を1箇所以上決定するA過程と、前記候補位置中、次階調の閾値の配置位置を決定するB過程とを有し、前記B過程は、前記ある階調までの閾値の配置位置が決定している閾値配列に基づいて得られる画像データの低周波成分を抽出する第1の過程と、前記1つ以上の箇所の各候補位置における前記低周波成分強度を求める第2の過程と、求めた低周波成分強度が最も弱い候補位置を前記次階調の閾値の配置位置として決定する第3の過程とを含み、前記第1の過程から前記第3の過程を前記次階調の同値1つ以上の閾値の全ての配置位置が決定するまで繰り返し行うことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
IPC (4件)：
H04N 1/40
, G06T 5/00 200
, G06T 5/20
, H04N 1/405
G06T 5/00 200 A
, G06T 5/20 A
, H04N 1/40 103 B
, H04N 1/40 B
5B057BA30
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB07
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CE06
, 5B057CE13
, 5B057CH09
, 5C077LL03
, 5C077MP02
, 5C077NN04
, 5C077PP01
, 5C077PQ18
, 5C077RR11
