特許
J-GLOBAL ID:200903093885828837
光に対して安定な遮光性化粧品組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-337131
公開番号(公開出願番号):特開平9-175974
出願日: 1996年12月17日
公開日(公表日): 1997年07月08日
要約:
【要約】【課題】 遮光性化粧品組成物に添加されるジベンゾイルメタン型UV-A遮断剤を長期にわたり安定化する。【解決手段】 少なくとも1種の脂肪相を含有する美容上容認しうるビヒクル中に、約0.1から約5%、とりわけ約1から約3重量%のジベンゾイルメタン型UV-A遮断剤と、少なくとも約0.5%、とりわけ約0.5から約4.5重量%のα-シアノ-β,β-ジフェニルアクリレート安定剤、および任意に少なくとも1種の通常のUV-Bフィルターを含み、ジベンゾイルメタンの量が1%以上の場合には、アクリレート対ジベンゾイルメタン誘導体のモル比が0.8未満である、光に対して安定な遮光性化粧品組成物。
請求項(抜粋):
少なくとも1種の脂肪相を含有する美容上容認しうるビヒクル中に、約0.1から約5%、とりわけ約1から約3重量%のジベンゾイルメタン型UV-A遮断剤と、少なくとも約0.5%、とりわけ約0.5から約4.5重量%のα-シアノ-β,β-ジフェニルアクリレート安定剤、および任意に少なくとも1種の通常のUV-Bフィルターを含み、ジベンゾイルメタンの量が1%以上の場合には、アクリレート対ジベンゾイルメタン誘導体のモル比が0.8未満である、光に対して安定な遮光性化粧品組成物。
引用特許: