特許
J-GLOBAL ID：200903093892479171
下水処理場の水質制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉武 賢次 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-132687
公開番号（公開出願番号）：特開2002-320957
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月05日
要約：
【要約】【目的】 下水処理場における返流水が水処理プロセスに与える悪影響を低減する下水処理場の水質制御装置を提供する。【構成】 下水処理場の水質制御装置は、下水を水処理プロセス部(51)で処理し生じる汚泥を汚泥処理プロセス部(52)の脱水装置(14)で脱水し、脱水装置で脱水されて生じる返流水を前記水処理プロセス部へ返流する下水処理場の水質制御装置であって、返流水の水質を測定する水質測定手段(22)と、水質測定手段の測定結果に基づき、返流水の汚泥濃度が許容濃度になるように制御する制御手段(25)とを備えることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
下水を水処理プロセス部で処理し生じる汚泥を汚泥処理プロセス部の脱水装置で脱水し、前記脱水装置で脱水されて生じる返流水を前記水処理プロセス部へ返流する下水処理場の水質制御装置であって、前記返流水の水質を測定する水質測定手段と、前記水質測定手段の測定結果に基づき、前記返流水の汚泥濃度が許容濃度になるように制御する制御手段とを備えることを特徴とする下水処理場の水質制御装置。
IPC (3件)：
C02F 1/00
, C02F 11/12 ZAB
, C02F 11/14
C02F 1/00 T
, C02F 11/12 ZAB Z
, C02F 11/14 A
4D059AA04
, 4D059AA05
, 4D059BE49
, 4D059BE54
, 4D059CA28
, 4D059EA20
, 4D059EB02
, 4D059EB11
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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