特許
J-GLOBAL ID:200903094028512716
有害ガス処理装置と処理シートおよびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 巖 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-287270
公開番号(公開出願番号):特開2002-095929
出願日: 2000年09月21日
公開日(公表日): 2002年04月02日
要約:
【要約】【課題】 光触媒シートを用いた有害ガス処理装置の紫外線ランプおよび電力消費量の低減を図り、光触媒と吸着剤との効率的併用が容易に可能な有害ガス処理装置ならびに処理シートとその製造方法を提供する。【解決手段】 被処理ガスが、光触媒シート50により挟まれた第1の流路11と吸着剤シート60により挟まれた第2の流路12とを複数段交互に流れるようになし、光触媒シートに紫外線を照射する紫外線照射ランプ40を、光触媒シートにより挟まれた第1の流路11の光触媒シート50を臨む位置に設けるものとし、有害ガス処理シートは、結着材としてのフッソ樹脂中に光触媒機能を有する金属化合物粒子を含む第1の層と、結着材としてのフッソ樹脂中に活性炭粒子を含む第2の層とを、背中合わせに積層した2層構成のシートとする。
請求項(抜粋):
光触媒機能を有する金属化合物粒子を備えた光触媒シートおよび活性炭,ゼオライト等の吸着剤を備えた吸着剤シートの双方を用いて、被処理ガス中の有害物質を分解および吸着除去する有害ガス処理装置であって、前記被処理ガスが、前記光触媒シートにより挟まれた第1の流路と前記吸着剤シートにより挟まれた第2の流路とを複数段交互に流れるようになし、光触媒シートに紫外線を照射する紫外線照射手段を、前記光触媒シートにより挟まれた第1の流路の光触媒シートを臨む位置に設けることを特徴とする有害ガス処理装置。
IPC (6件):
B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/86
, B01D 53/94
, B01J 21/06
, B01J 35/02
, B01J 35/02 311
FI (7件):
B01J 21/06 A
, B01J 35/02 J
, B01J 35/02 311 Z
, B01D 53/36 ZAB J
, B01D 53/36 E
, B01D 53/36 H
, B01D 53/36 102 D
Fターム (35件):
4D048AA03
, 4D048AA06
, 4D048AA08
, 4D048AA22
, 4D048BA05X
, 4D048BA05Y
, 4D048BA07X
, 4D048BA07Y
, 4D048BA50X
, 4D048BA50Y
, 4D048BB03
, 4D048CC29
, 4D048EA01
, 4D048EA04
, 4G069AA02
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA08A
, 4G069BA08B
, 4G069BA22A
, 4G069BA22B
, 4G069BC50A
, 4G069BC50B
, 4G069BD04A
, 4G069BD04B
, 4G069CA02
, 4G069CA10
, 4G069CA13
, 4G069CA17
, 4G069DA06
, 4G069EA07
, 4G069FA03
, 4G069FB04
, 4G069FB32
引用特許: