特許
J-GLOBAL ID：200903094047481619
曲面への微細な凹凸の形成方法、及び光学部材
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-323666
公開番号（公開出願番号）：特開2004-155083
出願日： 2002年11月07日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】曲面への微細な凹凸からなる反射防止機能を付与できて、安価で、量産性に優れる曲面への微細な凹凸の形成方法、及び光学部材を提供する。【解決手段】(a)少なくとも一方の面に、曲面を有するマスタ光学部材を用意する工程と、(b)該マスタ光学部材の曲面へ導電層を形成する工程と、(c)該導電層面へ電着レジストを塗布する工程と、(d)該電着レジストへ、露光部及び未露光部を備えるパターンを有するマスクパターンを介して露光する工程と、(e)露光後、電着レジストを現像して微細な凹凸を形成する工程と、(f)該微細な凹凸を有する光学部材から複製版材を作成する工程と、(g)該複製版材を用いて射出成形法で成形する工程と、(h)該成形後に、金型を解放して取出す工程と、からなることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(a)少なくとも一方の面に、曲面を有するマスタ光学部材を用意する工程と、(b)該マスタ光学部材の曲面へ導電層を形成する工程と、(c)該導電層面へ電着レジストを塗布する工程と、(d)該電着レジストへ、露光部及び未露光部を備えるパターンを有するマスクパターンを介して露光する工程と、(e)露光後、電着レジストを現像して微細な凹凸を形成する工程と、(f)該微細な凹凸を有する光学部材から複製版材を作成する工程と、(g)該複製版材を用いて射出成形法で成形する工程と、(h)該成形後に、金型を解放して取出す工程と、からなる曲面への微細な凹凸の形成方法。
IPC (5件)：
B29C33/38
, B29C45/37
, G02B1/11
, G02B5/18
, G03F7/24
B29C33/38
, B29C45/37
, G02B5/18
, G03F7/24 Z
, G02B1/10 A
2H025AB14
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025EA04
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H049AA03
, 2H049AA17
, 2H049AA18
, 2H049AA33
, 2H049AA40
, 2H049AA48
, 2H049AA55
, 2H049AA63
, 2H097AA16
, 2H097LA15
, 2K009AA12
, 2K009DD12
, 2K009EE03
, 4F202AF01
, 4F202AH73
, 4F202CA09
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CD02
, 4F202CD03
, 4F202CD05
, 4F202CD23
, 4F202CD24
