レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-302948
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125271
出願日： 1999年10月25日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【解決手段】下記の繰り返し単位を有する重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物をベース樹脂として含有するレジスト材料。【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はCO2R2を示す。R2はアルキル基を示す。R3は水素原子、メチル基又はCH2CO2R2を示す。R4は酸不安定基を示す。iは1〜4の整数である。kは0又は1である。)【効果】本発明のレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れているため、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。特にArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成することができるという特徴を有する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1-1)又は(1-2)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物をベース樹脂として含有することを特徴とするレジスト材料。【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はCO2R2を示す。R2は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R3は水素原子、メチル基又はCH2CO2R2を示す。R4は酸不安定基を示す。iは1〜4の整数である。kは0又は1である。)

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027 , C08F 32/08

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , C08F 32/08 , H01L 21/30 502 R

Fターム (55件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE05 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB06 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB52 , 2H025CB56 , 4J100AK32Q , 4J100AR09P , 4J100AR09Q , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100AR21P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA04P , 4J100BA12P , 4J100BA14P , 4J100BA15P , 4J100BA16P , 4J100BA20P , 4J100BA20Q , 4J100BA29P , 4J100BA30P , 4J100BA40P , 4J100BA51P , 4J100BA52P , 4J100BA53P , 4J100BA56P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC07P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC43P , 4J100BC48P , 4J100BC49P , 4J100BC55P , 4J100BC58P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-074718 出願人：ジェイエスアール株式会社
酸分解性重合体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-295824 出願人：三井化学株式会社

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