特許
J-GLOBAL ID:200903094117991857
ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物及びマイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
合田 潔 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-021226
公開番号(公開出願番号):特開平6-301200
出願日: 1994年02月18日
公開日(公表日): 1994年10月28日
要約:
【要約】【目的】 露光領域から未露光領域への酸成分の拡散を最小化し、レリーフ画像寸法制御の維持を補助する。【構成】 ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物であって、混合物中に、水性アルカリ現像溶液に可溶で、かつ水性アルカリ現像溶液に本質的に不溶とするために架橋剤との反応により架橋されるポリヒドロキシスチレン樹脂のようなヒドロキシ芳香族ポリマーを含むバインダーと、強い酸触媒との反応によりカルボニウムイオンを形成する架橋剤であって、混合した場合にポリマーバインダーを可塑化しない架橋剤と、放射線への露光で強い酸を形成する酸発生化合物とを含む。
請求項(抜粋):
ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物であって、混合物中に、水性アルカリ現像溶液に可溶で、かつ水性アルカリ現像溶液に本質的に不溶とするために架橋剤との反応により架橋されるヒドロキシ芳香族ポリマーを含むバインダーと、強い酸触媒との反応によりカルボニウムイオンを形成する架橋剤であって、混合した場合にポリマーバインダーを可塑化しない架橋剤と、放射線への露光で強い酸を形成する酸発生化合物と、を含むネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物。
IPC (5件):
G03F 7/004 503
, G03F 7/038 505
, G03F 7/30
, G03F 7/38 511
, H01L 21/027
FI (2件):
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 F
引用特許:
審査官引用 (5件)
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-210014
出願人:日本ゼオン株式会社
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特開平4-151665
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特開平2-154266
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特開平2-015270
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特開平1-293339
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