特許
J-GLOBAL ID：200903094198903728
磁気ディスクの作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224518
公開番号（公開出願番号）：特開2001-052332
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 磁気ディスクの平坦度と該磁気ディスクの高精細な制御パターンの印加とを両立させた磁気ディスクの作製方法を提供する。【解決手段】 予め、平坦度が30μm以内のディスク基板を射出成形により作製し、得られたディスク基板に、高精細な制御パターンを刻印したモールドを用いてモールド・プレスを行い、平坦度の向上を図るとともに、高精細な制御パターンを形成させる。この二段階のプロセスによって、プラスチック磁気ディスク基板の平坦度の向上と高精細なサーボパターンの形成との両立を可能とする。
請求項（抜粋）：
平坦度が30μm以下のディスク基板を射出成形し、得られた成形ディスク基板を高精細な制御パターンが刻印されたモールドを用いてプレス成形することにより、表面に高精細なパターニングが形成された平坦度の高い磁気ディスクを得ることを特徴とする磁気ディスクの作製方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, B29C 59/02
, B29L 17:00
G11B 5/84 Z
, B29C 59/02 B
4F209AA12
, 4F209AH38
, 4F209AJ06
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PG11
, 4F209PH03
, 4F209PH06
, 4F209PH10
, 4F209PN06
, 4F209PQ11
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA01
, 5D112BA10
