レーザ照射装置及びレーザ照射方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高橋敬四郎 , 来山幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-053400
公開番号（公開出願番号）：特開2006-237489
出願日： 2005年02月28日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：

【課題】照射対象物の表面で反射され、レーザビームが入射した光路に沿って戻る成分を、照射対象物に再入射させることができるレーザ照射装置を提供する。【解決手段】レーザ照射装置は、レーザビームを出射するレーザ光源と、レーザビームを照射すべき照射対象物を保持する保持台と、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを、前記保持台に保持された照射対象物まで、第1の光路に沿って導くと共に、該照射対象物で反射されて前記第1の光路に沿って戻るビームを、該第1の光路から分岐した第2の光路に沿って伝搬させる分岐光学系と、前記分岐光学系で分岐されて前記第2の光路に沿って伝搬するビームを、前記照射対象物に再入射させる再入射光学系とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザビームを出射するレーザ光源と、レーザビームを照射すべき照射対象物を保持する保持台と、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを、前記保持台に保持された照射対象物まで、第1の光路に沿って導くと共に、該照射対象物で反射されて前記第1の光路に沿って戻るビームを、該第1の光路から分岐した第2の光路に沿って伝搬させる分岐光学系と、前記分岐光学系で分岐されて前記第2の光路に沿って伝搬するビームを、前記照射対象物に再入射させる再入射光学系とを有するレーザ照射装置。

IPC (3件)：

H01L 21/268 , H01L 21/20 , H01L 21/265

FI (3件)：

H01L21/268 J , H01L21/20 , H01L21/265 602C

Fターム (8件)：

5F152CC02 , 5F152CE05 , 5F152EE01 , 5F152EE03 , 5F152FF05 , 5F152FF44 , 5F152FF47 , 5F152FG04

引用特許：

出願人引用 (1件)

レーザ照射装置およびレーザ照射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-307198 出願人：日本電気株式会社

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