特許

J-GLOBAL ID：200903094255480260

プラズマ源

発明者： 酒井 滋樹 ,  高橋 正人
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-025024
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223299
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 放出プラズマ中に高エネルギー電子が含まれることを防止する。【解決手段】 このプラズマ源2aは、電子サイクロトロン共鳴を起こさせる磁界Bを、プラズマ室容器4内において、プラズマ放出孔8からのプラズマ放出方向22に交差する方向に発生させる電磁石40(磁界発生手段)を備えている。

請求項（抜粋）：

マイクロ波が導入されるプラズマ室容器内において電子サイクロトロン共鳴を利用してプラズマを生成し、このプラズマをプラズマ室容器の前面部に設けたプラズマ放出孔から放出させる構成のプラズマ源において、前記電子サイクロトロン共鳴を起こさせる磁界を、前記プラズマ室容器内において、前記プラズマ放出孔からのプラズマ放出方向に交差する方向に発生させる磁界発生手段を備えることを特徴とするプラズマ源。

IPC (2件)：

H05H 1/46 ,  G21K 5/04

FI (2件)：

H05H 1/46 C ,  G21K 5/04 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• イオンビーム中性化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-033787   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭63-142636
  
• 特開平3-194841