特許
J-GLOBAL ID：200903094352672858
含フッ素シリル化誘導体を調製するための試薬および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
川口 義雄
, 小野 誠
, 渡邉 千尋
, 金山 賢教
, 大崎 勝真
, 坪倉 道明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-540547
公開番号（公開出願番号）：特表2007-512296
出願日： 2004年11月29日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：
本発明は、少なくとも1個のフッ素を有する炭素と一ケイ素の間に結合を有する含フッ素シリル化誘導体を調製する方法に関する。本方法は、式(I)Rf-CO-O-Dの誘導体(式中、Dはシリル化基から選択される)を塩基の存在下に置く少なくとも1つのステップを含む。本発明の方法は、含フッ素誘導体を合成するために使用する。
請求項（抜粋）：
少なくとも1個のフッ素を有する炭素とケイ素の間に結合を示す含フッ素シリル化誘導体を調製する方法であって、式(I)Rf-Y-O-Dの誘導体:
(前記式(I)中、
-Rfは、Yに対してα位の炭素に少なくとも1個のフッ素原子を含んでなる、1から15個の炭素原子を有する炭化水素基を表し、
-Dはシリル化基から選択され、
-Yはカルボニルおよびアミノアルキレン基から選択される)
を塩基と接触させる段階を含むことを特徴とする、前記方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ11
, 4H049VR24
, 4H049VS31
, 4H049VW33
