特許

J-GLOBAL ID：200903094394085979

成膜装置用ノズルおよび成膜装置

発明者： 大平 晃也
出願人/特許権者： NTN株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-041372
公開番号（公開出願番号）：特開2008-202117
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：

【課題】基板上において衝突する微粒子の密度を向上させ、機械的強度が大きく、被膜や構造物の均一性を確保可能な成膜装置用ノズルおよび成膜装置を提供する。【解決手段】微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを基材の成膜部に向けて吐出するエアロゾル吐出ノズル2と、ガスを吐出するガス吐出ノズル3とからなる成膜装置用ノズル1であって、エアロゾル吐出ノズル2およびガス吐出ノズル3はそれぞれ先端部に吐出開口2aおよび3aを有し、エアロゾル吐出ノズル2の先端部外周の少なくとも一部にガス吐出ノズル3の先端部を隣接配置してなる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを基材の成膜部に向けて吐出するエアロゾル吐出ノズルと、ガスを吐出するガス吐出ノズルとからなる成膜装置用ノズルであって、 前記エアロゾル吐出ノズルおよび前記ガス吐出ノズルはそれぞれ先端部に吐出開口を有し、前記エアロゾル吐出ノズルの先端部外周の少なくとも一部に前記ガス吐出ノズルの先端部を隣接配置したことを特徴とする成膜装置用ノズル。

IPC (3件)：

C23C 24/04 ,  B01J 19/00 ,  B05B 7/06

FI (3件)：

C23C24/04 ,  B01J19/00 K ,  B05B7/06

Fターム (27件)：

4F033QA01 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB05 ,  4F033QB13Y ,  4F033QB19 ,  4F033QD02 ,  4F033QD21 ,  4F033QE05 ,  4F033QE08 ,  4F033QF02X ,  4F033QF07X ,  4G075AA24 ,  4G075BC10 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC01 ,  4G075ED01 ,  4G075ED13 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB12 ,  4K044BA13 ,  4K044BB01 ,  4K044CA23 ,  4K044CA51 ,  4K044CA71

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 超微粒子の成膜,成形方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-174048   出願人：工業技術院長
• 複合構造物作製用ノズル及び複合構造物作製装置及び複合構造物作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-049240   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 東陶機器株式会社