特許
J-GLOBAL ID:200903094451240862

CVDリアクタ壁の反射表面

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三枝 英二 (外8名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-502246
公開番号(公開出願番号):特表2001-509642
出願日: 1998年07月09日
公開日(公表日): 2001年07月24日
要約:
【要約】半導体処理リアクタ室内で放射熱エネルギーを散乱させ、処理される基板全体で均一な温度を達成するため、反射器プレート(100)を提供する。表面(104)は、平面区間がほぼなく隣接する複数の凹み(106)があり、凹みの間に平面区間がほぼないことを特徴とする。凹みの幅対深さの比率は、平均して3:1より大きい。凹みを分離する頂部が、約60°より大きい角度を画定し、したがって反射性表面に比較的滑らかなきめを提供する。したがって、反射表面が容易にクリーニングされる。反射器プレートを製造する方法は、ボール・エンド・ミリングによって平面の金属表面から材料を除去するステップを含む。各凹みの深さおよび隣接する凹みと重複する度合いは、選択された範囲内で不規則に変化することができる。次に、金電気メッキにより、点刻表面に高度に鏡面の仕上げを設ける。
請求項(抜粋):
高温プロセス・リアクタ内で放射エネルギーを散乱させる反射器プレートであって、複数の凹みを有する反射表面を有するベース・プレートを備え、各凹みがベース・プレート内への深さおよび深さに垂直な次元の幅を有し、反射器プレート全体で凹みの幅対深さが平均して約3:1より大きく、反射表面が、凹みと合致する反射性仕上げを含む反射器プレート。
IPC (4件):
H01L 21/205 ,  B23C 5/10 ,  C23C 16/48 ,  G02B 5/10
FI (4件):
H01L 21/205 ,  B23C 5/10 B ,  C23C 16/48 ,  G02B 5/10 A
Fターム (14件):
2H042DA05 ,  2H042DD08 ,  2H042DD10 ,  3C022KK02 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030KA24 ,  4K030KA45 ,  5F045BB10 ,  5F045DP04 ,  5F045EB05 ,  5F045EK12 ,  5F045EK14 ,  5F045EK21
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • バレル型気相成長装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-066983   出願人:信越半導体株式会社
  • 熱酸化処理方法及び熱酸化処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-081612   出願人:ソニー株式会社
  • 特開昭52-004798
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