特許
J-GLOBAL ID：200903094451574566
多層構造体を温度処理するための装置および方法、並びにその種の多層構造体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-514489
公開番号（公開出願番号）：特表2003-519441
出願日： 2000年07月31日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：
【要約】大面積の多層構造体を、少なくとも1°C/sの温度変化速度でエネルギー量を供給することにより温度処理するための方法が提案される。温度不均一性を阻止するために温度処理中に、多層構造体の層を位置的および時間的に分解してエネルギー量の種々異なる部分量を供給する。多層構造体は容器内で温度処理され、この容器はガラスセラミック製の底部とカバーを有する。本発明の方法は薄膜太陽電池モジュールを作製するために適用される。
請求項（抜粋）：
第1の層(2,3,4)と少なくとも1つの第2の層(2,3,4)とを有する多層構造体を温度処理するための装置であって、 当該温度処理は、エネルギー量の第1の部分量を第1の層(2,3,4)により吸収し、エネルギー量の第2の部分量を第2の層(2,3,4)により吸収することにより、多層構造体によってエネルギー量を吸収することで行われ、 少なくとも1つの、エネルギー量のエネルギー源(7,11)を有する形式の装置において、 第1のエネルギー源と少なくとも1つの第2のエネルギー源とが設けられており、 少なくとも1つのエネルギー源(7,11)は、照射野(9,15)を有する所定の電磁ビーム(13)を放射し、 少なくとも1つの層(2,4)は前記電磁ビーム(8,13)に対して所定の吸収度を有しており、 第1の層(2)は第2のエネルギー源(7)と第2の層(4)との間で、第2の層(4)は第2のエネルギー源(11)と第1の層(2)との間で、当該層(2,4)が電磁ビーム(8,13)を吸収するように照射野(9,15)に配置され、 照射野(9,15)では、照射野(9,15)を有するエネルギー源(7,11)と、該電磁ビーム(8,13)を吸収する層(2,4)との間に少なくとも1つの透明体(5,12)が配置されており、 該透明体は電磁ビームに対して所定の透過率と所定の吸収度を有する、ことを特徴とする装置。
Fターム (11件)：
5F051AA10
, 5F051BA14
, 5F051CA07
, 5F051CA08
, 5F051CA18
, 5F051CA20
, 5F051CA22
, 5F051CA24
, 5F051CA40
, 5F051GA03
, 5F051GA06
