特許
J-GLOBAL ID：200903094460582407
高出力レーザー光伝送方法及びその装置及びレーザー加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-283906
公開番号（公開出願番号）：特開2001-108869
出願日： 1999年10月05日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】 高出力レーザー光11の光ファイバー12からの反射光の影響を低減する。【解決手段】 高出力レーザー光11を光ファイバー12により伝送する高出力レーザー光伝送方法において、コア径rよりも大きい径Rのレーザー光入射端面で高出力レーザー11を光ファイバー12に入射して伝送するようにし、高出力レーザー光11の入射エネルギー密度を小さくし、高出力レーザー光11の反射光の影響を低減する。
請求項（抜粋）：
高出力レーザー光を光ファイバーにより伝送する高出力レーザー光伝送方法において、コア径よりも大きい径のレーザー光入射端面で高出力レーザーを光ファイバーに入射して伝送することを特徴とする高出力レーザー光伝送方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
2H037AA04
, 2H037BA06
, 2H037CA07
, 2H037CA09
, 2H037CA10
, 4E068CA02
, 4E068CE08
