特許
J-GLOBAL ID：200903094477516556
レーザー蒸着成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-219530
公開番号（公開出願番号）：特開平10-060629
出願日： 1996年08月21日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：
【要約】【課題】 レーザー光のエネルギーを高くすることなく、均一の組成、膜厚を有する薄膜を成膜する。【解決手段】 矢印A方向に回転するターゲット固定台6にターゲット1を取り付け、ターゲット1に対向して基板2を設け、ターゲット1の平面の法線方向をターゲット1の回転軸方向から偏向し、ターゲット1の回転軸と基板2の回転軸とを平行とし、ターゲット1の回転軸と基板2の回転軸とをずらす。
請求項（抜粋）：
収束したレーザー光をターゲットに照射してターゲット物質をプラズマ化し、上記ターゲット物質の薄膜を基板上に堆積させるレーザー蒸着成膜装置において、上記ターゲットの平面の法線方向が上記ターゲットの回転軸方向から偏向していることを特徴とするレーザー蒸着成膜装置。
引用特許：
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