薬液供給システム

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：笹島富二雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-334420
公開番号（公開出願番号）：特開2003-136011
出願日： 2001年10月31日
公開日（公表日）： 2003年05月13日
要約：

【要約】【課題】薬液供給システムにおいて、薬液タンクからの薬液を負圧吸引して噴射するノズルを利用して薬液供給の微少流量制御を可能とする。【解決手段】内部に薬液5を収容して密閉可能とされた薬液タンク10と、この薬液タンク10に薬液供給パイプ7で接続され外部からの高圧気体の送気により上記薬液タンク10から供給される薬液5を負圧吸引して該薬液5を噴射するノズル11と、上記薬液タンク10内に形成される負圧空間Sに対し任意圧力の正圧ガスを供給する正圧供給手段12とを備え、上記正圧供給手段12により薬液タンク10に供給する正圧ガスの流量を調整することによって上記ノズル11への薬液5の供給流量を制御するものである。これにより、薬液タンク10からの薬液5を負圧吸引して噴射するノズル11を利用して薬液供給を微少流量で制御できる。

請求項（抜粋）：

内部に薬液を収容して密閉可能とされた薬液タンクと、この薬液タンクに薬液供給パイプで接続され外部からの高圧気体の送気により上記薬液タンクから供給される薬液を負圧吸引して該薬液を噴射するノズルと、上記薬液タンク内に形成される負圧空間に対し任意圧力の正圧ガスを供給する正圧供給手段とを備え、上記正圧供給手段により薬液タンクに供給する正圧ガスの流量を調整することによって上記ノズルへの薬液の供給流量を制御することを特徴とする薬液供給システム。

IPC (7件)：

B05C 11/10 , B05B 1/00 , B05B 7/04 , G02F 1/13 101 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 , H01L 21/304 648

FI (7件)：

B05C 11/10 , B05B 1/00 Z , B05B 7/04 , G02F 1/13 101 , H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 643 C , H01L 21/304 648 K

Fターム (42件)：

2H088FA18 , 2H088HA01 , 4F033AA14 , 4F033BA03 , 4F033CA01 , 4F033DA01 , 4F033EA01 , 4F033GA01 , 4F033GA11 , 4F033LA13 , 4F033NA01 , 4F033QA01 , 4F033QB02Y , 4F033QB03X , 4F033QB12Y , 4F033QB13Y , 4F033QB17 , 4F033QC02 , 4F033QD04 , 4F033QD15 , 4F033QE21 , 4F033QF07Y , 4F033QF11X , 4F033QK02X , 4F033QK04X , 4F033QK09X , 4F033QK16X , 4F033QK18X , 4F033QK23X , 4F033QK27X , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042AB00 , 4F042BA06 , 4F042BA12 , 4F042CA01 , 4F042CA09 , 4F042CB03 , 4F042CB10 , 4F042CB19 , 4F042CB24 , 4F042ED05

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-265169
磁気ディスクの潤滑剤塗布方式および塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-021810 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
特開平4-265169

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