特許
J-GLOBAL ID：200903094570570765
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-345147
公開番号（公開出願番号）：特開平7-171477
出願日： 1993年12月20日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：
【要約】【目的】 カップリンスに要するランニングコストを低減できる基板処理装置を提供する。【構成】 カップリンス後の洗浄液の廃液は排液ドレイン10から排出され廃液タンク20に貯留される。廃液タンク20に一端が連通接続された廃液供給管21は、ポンプ22等を介して管50の一端に連通接続されている。管50の他端側は2方向に分岐され、それぞれニードルバルブ51、52を介して洗浄導管6、8に連通接続されている。カップリンス時、制御部25は、ポンプ22を駆動して廃液タンク20に貯留された廃液OSを各洗浄導管6、8に供給する。洗浄液を再利用してカップリンスすることが可能となり、カップリンスに要するランニングコストの低減を図ることができる。
請求項（抜粋）：
基板を保持した状態で回転させるスピンチャックと、前記基板上に液剤を供給する液剤供給ノズルと、前記スピンチャックに保持される基板を囲む基板処理容器と、基板の回転処理の際に飛散して前記基板処理容器内に付着した液剤を洗浄液で洗浄するための前記基板処理容器に設けられた洗浄導管とを備えた基板処理装置において、前記基板処理容器を洗浄した後の洗浄液の廃液を貯留する廃液タンクと、前記廃液タンクに貯留された廃液を前記洗浄導管へ供給する廃液供給手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B05C 11/10
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
