特許
J-GLOBAL ID：200903094595706645

ステージシステム

発明者：
是永 伸茂

是永 伸茂 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-010182
公開番号（公開出願番号）：特開2003-218188
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2003年07月31日
要約：
【要約】【課題】 リニアモータの発熱による各種問題を防ぎ、高速かつ高精度なステージ装置を含むステージシステムを提供する。【解決手段】 ステージ152に対して電磁石158により電磁石158の発生する磁束の方向に力を与える機構と、電磁石158をステージ152の移動方向へ移動する電磁石移動機構(送りねじ159、ナット160、モータ161、軸受け162等)と、電磁石158の磁束を制御する電磁石磁束制御器(磁束プロファイル104、分配手段141、積分器142、電磁石アンプ143等)とを有する。
請求項（抜粋）：
移動自在なステージと、前記ステージに対して電磁石により該電磁石の発生する磁束の方向に力を与える機構と、前記電磁石を前記ステージの移動方向へ移動する電磁石移動機構と、前記電磁石の磁束を制御する電磁石磁束制御器とを有することを特徴とするステージシステム。
IPC (4件)：
H01L 21/68 ,  G01L 5/00 ,  H01L 21/027 ,  H02P 5/00 101
FI (5件)：
H01L 21/68 K ,  G01L 5/00 H ,  H02P 5/00 101 B ,  H01L 21/30 503 A ,  H01L 21/30 502 G
Fターム (22件)：
2F051AA10 ,  2F051AA24 ,  2F051AB09 ,  2F051AB10 ,  5F031LA08 ,  5F031LA10 ,  5F031MA27 ,  5F031PA11 ,  5F046AA28 ,  5F046CC03 ,  5F046CC18 ,  5F046DD06 ,  5H540AA10 ,  5H540BA06 ,  5H540BB04 ,  5H540DD08 ,  5H540EE02 ,  5H540EE05 ,  5H540FA03 ,  5H540FA13 ,  5H540FC05 ,  5H540FC09
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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