特許
J-GLOBAL ID:200903094652514480
ヒ素除去用鉄粉の再生方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
植木 久一
, 菅河 忠志
, 二口 治
, 伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-176680
公開番号(公開出願番号):特開2008-006331
出願日: 2006年06月27日
公開日(公表日): 2008年01月17日
要約:
【課題】ヒ素除去用鉄粉の再生方法を提供すること。【解決手段】ヒ素を含有する鉄粉をアルカリ性水溶液と接触させ、次いでアルカリ性水溶液と接触させた鉄粉を酸性水溶液と接触させることを特徴とする、ヒ素除去用鉄粉の再生方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ヒ素を含有する鉄粉をアルカリ性水溶液と接触させ、次いでアルカリ性水溶液と接触させた鉄粉を酸性水溶液と接触させることを特徴とする、ヒ素除去用鉄粉の再生方法。
IPC (7件):
B01J 20/34
, B01J 20/02
, C02F 1/62
, B22F 1/00
, B22F 9/16
, B22F 9/20
, C22B 7/00
FI (7件):
B01J20/34 G
, B01J20/02 A
, C02F1/62 Z
, B22F1/00 S
, B22F9/16
, B22F9/20 F
, C22B7/00 G
Fターム (25件):
4D038AA08
, 4D038AB70
, 4D038AB82
, 4D038BB17
, 4G066AA02B
, 4G066AE01D
, 4G066AE02D
, 4G066CA46
, 4G066GA11
, 4G066GA34
, 4K001AA10
, 4K001BA24
, 4K001CA08
, 4K001DB02
, 4K001DB03
, 4K001DB05
, 4K017AA02
, 4K017BA06
, 4K017BB18
, 4K017EA01
, 4K017FB01
, 4K018AA24
, 4K018BA13
, 4K018BC09
, 4K018BD10
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)