特許
J-GLOBAL ID：200903094669210531

EL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法、EL素子製造用スパッタリングターゲット、EL素子及びEL素子の製造方法

発明者：
片岡 成樹

片岡 成樹 について

, 
矢野 義彦

矢野 義彦 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  阿部 豊隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-292477
公開番号（公開出願番号）：特開2005-063812
出願日： 2003年08月12日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 発光膜中のO含有量を十分に低減することができ、しかも、EL素子の発光の色純度を高く維持できるEL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法及びEL素子製造用スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 EL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法が、Mg、Ca、Sr及びBaからなる群より選ばれる1種以上の2価金属の硫化物と、3価金属と、発光中心元素の硫化物とを混合して混合物を得る混合工程と、混合物を成形して成形物を得る成形工程と、成形物を焼結してEL素子製造用スパッタリングターゲットを得る焼結工程とを含むと、上記課題を解決することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
Mg、Ca、Sr及びBaからなる群より選ばれる1種以上の2価金属の硫化物と、3価金属と、発光中心元素の硫化物と、を混合して混合物を得る混合工程と、 前記混合物を成形して成形物を得る成形工程と、 前記成形物を焼結してEL素子製造用スパッタリングターゲットを得る焼結工程と、 を含むことを特徴とするEL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (3件)：
H05B33/10 ,  C23C14/34 ,  H05B33/14
FI (3件)：
H05B33/10 ,  C23C14/34 A ,  H05B33/14 A
Fターム (9件)：
3K007AB02 ,  3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  4K029BD00 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)

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