特許
J-GLOBAL ID：200903094672729548
紫外線レーザ用石英ガラス光学部材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-306438
公開番号（公開出願番号）：特開平9-124337
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：
【要約】【課題】 酸水素炎による合成石英ガラス製造時に発生する水素起因欠陥若しくは高温水素処理によって生じる水素起因欠陥を除去し、波長193nmのArFエキシマレーザー、波長213nmのYAGレーザーの5倍高調波に対して優れた安定性を有する紫外線レーザー光学用合成石英ガラス部材を提供することにある。【解決手段】 本発明は、石英ガラス光学部材に前記波長の短いレーザーの照射に耐えられるように2×1017分子/cm3以上5×1019分子/cm3以下の、好ましくは5×1017分子以上5×1018分子/cm3以下の水素分子を合成石英ガラスの製造時、及び/又は後工程でドーピングする工程と、このとき水素によって生じる還元性の欠陥を波長150nmないし300nmの紫外線の照射によって石英ガラスの構造を破壊することなく除去する事によって、前記レーザーの照射に対しても耐性の強い石英ガラスを得るものである。
請求項（抜粋）：
合成石英ガラス中に2×1017分子/cm3以上5×1019分子/cm3以下の水素を含有する工程と、該水素ガスを含有した石英ガラス部材に波長150nmないし300nmの範囲内の紫外線を、該石英ガラス部材の照射表面における照度として少なくとも1μW/cm2以上、100W/cm2以下のエネルギーで20時間以上照射する工程と、を含むことを特徴とする紫外線レーザ用石英ガラス光学部材の製造方法。
IPC (3件)：
C03C 3/06
, C03B 20/00
, H01S 3/17
C03C 3/06
, C03B 20/00
, H01S 3/17
