特許
J-GLOBAL ID：200903094696564558
パターンマッチング方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-023201
公開番号（公開出願番号）：特開2001-216470
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】 擦れ,滲み,印字むら,及び細り等に影響され難いパターンマッチング方法及びその実施に使用する装置を提供する。【解決手段】 マッチング候補となる辞書データ(パターン画像)を膨張処理するとともに、前記パターン画像を収縮処理し(ステップ13)、これら膨張及び収縮画像の差分画像を求め(ステップ15)、差分画像に基づいてマスク画像を生成し(ステップ16)、生成したマスク画像以外の領域の画素について、認識対象となる文字を含む画像を前記パターン画像に基づいてマッチング処理する構成とした。
請求項（抜粋）：
マッチング候補となる予め設定されたパターン画像を膨張処理することによって第1パターン画像を生成し、前記パターン画像を収縮処理することによって第2パターン画像を生成するか又は前記パターン画像を前記第2パターン画像とし、前記第1及び第2パターン画像の差分画像を求め、求めた差分画像に基づいてマスク画像を生成し、生成したマスク画像以外の領域の画素について、認識対象となる文字を含む画像を前記パターン画像に基づいてマッチング処理することを特徴とするパターンマッチング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06K 9/62 D
, G06F 15/70 455 A
5B064AA05
, 5B064CA02
, 5B064CA12
, 5B064CA13
, 5B064DA22
, 5B064DB18
, 5L096BA17
, 5L096EA02
, 5L096EA12
, 5L096EA39
, 5L096FA06
, 5L096GA08
, 5L096GA10
, 5L096HA09
, 9A001HH22
