アルカリ現像型フォトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-240504
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078318
出願日： 1994年09月08日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】回路基板の製造および半導体や電子部品の回路基板への実装の際に行うバンプ形成、配線形成、層間絶縁、回路保護および精密部品加工・製造などのフォトファブリケーションに好適なアルカリ現像型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】(A)(a)不飽和カルボン酸からなる繰り返し単位5〜40重量%と、(b)水酸基を有するラジカル重合性化合物からなる繰り返し単位10〜40重量%と、(c)(メタ)アクリル酸環状アルキルエステルからなる繰り返し単位0〜60重量%と、(d)他のラジカル重合性化合物からなる繰り返し単位20〜60重量%とからなる共重合体、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および(C)光重合開始剤を含有することを特徴とするアルカリ現像型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)(a)不飽和カルボン酸からなる繰り返し単位5〜40重量%、(b)水酸基を有するラジカル重合性化合物からなる繰り返し単位10〜40重量%、(c)(メタ)アクリル酸環状アルキルエステルからなる繰り返し単位0〜60重量%、(d)他のラジカル重合性化合物からなる繰り返し単位20〜60重量%からなる共重合体、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および(C)光重合開始剤、を含有することを特徴とするアルカリ現像型フォトレジスト組成物。

IPC (10件)：

H01L 21/027 , C08L 33/02 LHV , C08L 33/04 LHV , C09D 4/00 PDR , G03F 7/027 502 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H05K 3/06 , H05K 3/18 , H05K 3/28

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-113252
アルカリ蝕刻性レジスト乾燥フィルムホトレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-231167 出願人：ハーキュリーズ・インコーポレーテッド
特開昭60-208748

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