特許
J-GLOBAL ID：200903094762315467

動圧軸受の動圧溝の形成方法及び形成装置

発明者：
佐藤 恵二

佐藤 恵二 について

, 
山崎 修

山崎 修 について


出願人/特許権者：
セイコーインスツルメンツ株式会社

セイコーインスツルメンツ株式会社 について


代理人 (1件)： 林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276248
公開番号（公開出願番号）：特開2001-099159
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：
【要約】【課題】 ラジアル部とスラスト部をもつような複雑な構造の動圧軸受でレジストの厚みが均一となるようなレジスト塗布法を提供する。【解決手段】 電着槽5にはレジスト成分を含有する電着浴6が入っておりその中で軸受部品1を負電極として正電極7で電流を流し電着を行う。
請求項（抜粋）：
レジストを電着で形成する工程と、前記レジストにエッチングパターンを形成する工程と、エッチング工程と、有することを特徴とする動圧軸受の動圧溝の形成方法。
IPC (3件)：
F16C 33/14 ,  C23F 1/00 ,  F16C 17/10
FI (3件)：
F16C 33/14 Z ,  C23F 1/00 B ,  F16C 17/10 A
Fターム (10件)：
3J011BA09 ,  3J011CA02 ,  3J011DA02 ,  4K057WA11 ,  4K057WB02 ,  4K057WB17 ,  4K057WC05 ,  4K057WD01 ,  4K057WE08 ,  4K057WN06
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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