特許
J-GLOBAL ID:200903094795022570
ダイアフラムおよびそれを用いたアキュムレータ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西藤 征彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-078580
公開番号(公開出願番号):特開2000-274528
出願日: 1999年03月23日
公開日(公表日): 2000年10月03日
要約:
【要約】【課題】油室へのハロゲンイオンの溶出を抑制することができ、シール性が確保されたダイアフラムを提供する。【解決手段】ガス遮蔽用の樹脂層21を介してガス室側ゴム層22と油室側ゴム層23を備えたダイアフラム20である。そして、上記ガス室側ゴム層22がハロゲン化ブチルゴムの含有量がゴム成分全体の60重量%以上に設定されたゴム組成物を用いて形成され、上記油室側ゴム層23がレギュラーブチルゴムのみをゴム成分とするゴム組成物を用いて形成され、かつ、上記ガス室側ゴム層のシール部22aの厚み(A)と上記油室側ゴム層のシール部23aの厚み(B)の比が、2.3<(A)/(B)<3.3の関係を満たしている。
請求項(抜粋):
ガス遮蔽用の樹脂層を介してガス室側ゴム層と油室側ゴム層を備えたダイアフラムであって、上記ガス室側ゴム層がハロゲン化ブチルゴムの含有量がゴム成分全体の60重量%以上に設定されたゴム組成物を用いて形成され、上記油室側ゴム層がレギュラーブチルゴムのみをゴム成分とするゴム組成物を用いて形成され、かつ、上記ガス室側ゴム層のシール部の厚み(A)と上記油室側ゴム層のシール部の厚み(B)の比が、2.3<(A)/(B)<3.3の関係を満たしていることを特徴とするダイアフラム。
IPC (5件):
F16J 3/02
, B32B 25/04
, C08L 23/28
, F15B 1/08
, C08L 23:16
FI (4件):
F16J 3/02 A
, B32B 25/04
, C08L 23/28
, F15B 1/047
Fターム (52件):
3H086AA14
, 3H086AA22
, 3H086AD07
, 3H086AD14
, 3H086AD25
, 3H086AD33
, 3H086AD38
, 3J045AA08
, 3J045AA10
, 3J045AA14
, 3J045BA02
, 3J045CA07
, 3J045DA05
, 3J045EA10
, 4F100AA37B
, 4F100AA37C
, 4F100AD11B
, 4F100AD11C
, 4F100AK01A
, 4F100AK09B
, 4F100AK09C
, 4F100AK10C
, 4F100AK16A
, 4F100AK19A
, 4F100AK42A
, 4F100AK49A
, 4F100AK54A
, 4F100AK69A
, 4F100AK73C
, 4F100AK75C
, 4F100AL05C
, 4F100AN01C
, 4F100AN02B
, 4F100AN02C
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100CA02B
, 4F100CA02C
, 4F100DB06
, 4F100GB32
, 4F100GB51
, 4F100JD02A
, 4J002AC012
, 4J002AC062
, 4J002AC082
, 4J002BB152
, 4J002BB181
, 4J002BB241
, 4J002GM00
, 4J002GN00
引用特許: